Canon 慶祝日本首台半導體曝光機PPC-1上市50周年

　記者陳建興／台北報導
　Canon 於 1970 年成功生產了日本首台半導體曝光機「PPC-1」，因此今年可說是 Canon 正式跨足半導體曝光機領域的50周年。半導體晶片從智慧手機到汽車等多領域被廣泛應用，半導體曝光機在器件的製程中可說是不可或缺。隨著數位技術迅速發展的同時，Canon的半導體曝光機也不斷升級。

　Canon 於 1975 年上市的「FPA-141F」曝光機實現了全球首次1微米以下的曝光，此項技術作為「重要科學技術歷史資料（未來技術遺產）」，於 2010 年被日本國立科學博物館產業技術歷史資料資訊中心收錄。
　目前 Canon 的曝光機包括 i線曝光機和 KrF曝光機產品線，並根據時代的需求不斷擴大應用範圍。未來，Canon 將繼續擴充半導體曝光機的產品陣容和功能，以支援各種尺寸和材料的晶圓以及下一代封裝技術。此外，在高科技發展領域為滿足電路圖案進一步微細化的需求，Canon 也致力於奈米壓印半導體製造設備的研發，使其能應用於大規模生產。

　自 1986年起，Canon 將半導體曝光機技術應用於平板顯示器製造領域，開始研發、製造和銷售平板顯示曝光設備。Canon 未來也將持續提高清晰度和生產效率，以滿足液晶和 OLED 顯示裝置的製造需求。
　Canon 今年歡慶投入半導體領域邁向 50 周年，今後將持續進化曝光設備技術，為科技產業發展做出貢獻。